隨著科技的進(jìn)步和發(fā)展，人們從理論和實(shí)驗研究中發(fā)現(xiàn)，當(dāng)許多材料被加工為具有納米尺度范圍的形狀時，會呈現(xiàn)出與大塊材料完*不同的性質(zhì)。這些特異的性質(zhì)向人們展現(xiàn)了令人興奮的應(yīng)用前景。在開發(fā)超大規(guī)模集成電路工藝技術(shù)的過程中，如電子束與X射線曝光，聚焦離子束加工技術(shù)等。但這些技術(shù)的缺點(diǎn)是設(shè)備昂貴，產(chǎn)量低，因而產(chǎn)品價格高昂。商用產(chǎn)品的生產(chǎn)必須是廉價的、操作簡便的，可工業(yè)化批量生產(chǎn)的、高重復(fù)性的；對于納米尺度的產(chǎn)品，還必須是能夠保持它所*有的圖形的精確度與分辯率。
納米壓印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)微米和納米尺度圖形結(jié)構(gòu)的復(fù)制加工，采用單面氣壓方式，有力保證了壓印的均勻性，減少碎片的發(fā)生。中間聚合物轉(zhuǎn)印則可以較大程度保護(hù)原始模具，延長使用壽命。
納米壓印系統(tǒng)是基于其機(jī)械壓印原理，將具有納米級尺寸圖案的模板在機(jī)械力的作用下壓到涂有高分子材料的襯底上，進(jìn)行等比例壓印復(fù)制圖案的工藝。其實(shí)質(zhì)就是液態(tài)聚合物對模板結(jié)構(gòu)腔體的填充過程和固化后聚合物的脫模過程。其加工分辨力只與模版圖案的特征尺寸有關(guān)，而不受光學(xué)光刻的*短曝光波長的物理限制。具有避免使用昂貴的光源及投影光學(xué)系統(tǒng)，不受光學(xué)光刻的*短曝光波長的物理限制和工藝簡便等特點(diǎn)，其高精度、高分辨率、廉價的特點(diǎn)使其很可能成為下一代重要的光刻技術(shù)，一種重要的微納米復(fù)制技術(shù)。
