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  • 臺式 無掩膜光刻系統

    NANYTE BEAM臺式無掩模光刻機/激光直寫系統設計的納米圖案結構，無需昂貴的掩膜可直接通過激光光刻圖案。在確保其優異性能的同時，小型化設計使得操作更為便捷，且實現快速加工處理，不但提高了微納米器件科研和生產的效率，還有效的節省了成本。

    更新時間：2025-05-08

    廠商性質：代理商

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